[发明专利]形成含锰膜的组合物、其合成、以及在膜沉积中的用途

摘要

披露了形成含锰膜的组合物、其制备、以及其用于膜的气相沉积的用途。这些形成含锰膜的组合物包含含甲硅烷基酰胺的前体，特别是{Mn[N(SiMe2Et)2]2}2。

主权项

1.一种将含Mn层沉积在基板上的方法，该方法包括：将形成含Mn膜的组合物的蒸气引入至其中布置有基板的反应器中，其中这些形成含Mn膜的组合物包含选自下组的含甲硅烷基酰胺的前体，该组由以下各项组成：{Mn[N(SiMe2Et)2]2}2；{Mn[N(SiMe2H)2]2}2；{Mn[N(SiMe3)(tBu)]2}2；{Mn[N(SiMe2nBu)2]2}2；Mn[N(SiMe3)2]2(py)；Mn[N(SiMe3)2]2(Me3N)；Mn[N(SiMe3)2]2(Et3N)；Mn[N(SiMe3)2]2(Me2EtN)；Mn[N(SiMe3)2]2(MeEt2N)；Mn[N(SiMe3)2]2(1‑Me‑吡咯烷)；Mn[N(SiMe3)2]2(PMe3)；{Mn[N(SiMe3)2]2}2；{Mn[N(SiMe2Et)2]2}2；Mn[N(SiMe2Et)2]2(py)；Mn[N(SiMe2Et)2]2(Me3N)；Mn[N(SiMe2Et)2]2(Et3N)；Mn[N(SiMe2Et)2]2(Me2EtN)；Mn[N(SiMe2Et)2]2(MeEt2N)；Mn[N(SiMe2Et)2]2(1‑Me‑吡咯烷)；Mn[N(SiMe2Et)2]2(PMe3)，以及其组合；并且使用气相沉积法使该含甲硅烷基酰胺的前体的至少一部分沉积到基板上以形成该含Mn层。