[发明专利]带有用于垂直浇注的基座的绕组装置有效
申请号: | 201680078870.8 | 申请日: | 2016-12-15 |
公开(公告)号: | CN108463865B | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | R.希莱;T-F.梅;S.韦纳特 | 申请(专利权)人: | 西门子股份公司 |
主分类号: | H01F41/12 | 分类号: | H01F41/12;H01F27/32 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 为了提供一种绕组装置(1),其带有多个沿轴向依次相叠布置的绕组段(2a、2b、…、2n),所述绕组段(2a、2b、…、2n)相互保持间距地布置并且相互电连接以便构成串联电路,该绕组装置实现了用绕组绝缘材料的垂直浇注,设置至少一个基座元件(6),所述基座元件(6)与绕组段(2a)相连并且设置用于承载整个绕组装置(1)。 | ||
搜索关键词: | 带有 用于 垂直 浇注 基座 绕组 装置 | ||
【主权项】:
1.一种绕组装置(1),其带有多个沿轴向依次相叠布置的绕组段(2a、2b、…、2n),所述绕组段(2a、2b、…、2n)相互保持间距地布置并且相互电连接以便构成串联电路,其特征在于,设有至少一个基座元件(6),所述基座元件(6)与绕组段(2a)相连并且设置用于承载整个绕组装置(1)。
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