[发明专利]基于阴影分析确定场景中辐射源特性的方法和系统有效
| 申请号： | 201680079298.7 | 申请日： | 2016-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN108475434B | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 玛坦·普洛特;莫蒂·库什尼尔;费利克斯·戈尔德贝格 | 申请（专利权）人： | 无限增强现实以色列有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/507 | 分类号： | G06T7/507;G06T7/73;G01B11/24;G03B15/02 |
| 代理公司： | 11240 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁丽超;刘彬 |
| 地址： | 以色列帕*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于分析影响场景的清晰的光或辐射源的方法和系统。该方法可以包括：感测包含表面和物体的场景的至少一个图像，其中该场景由至少一个清晰的辐射或源照射；维护场景的数据库，该数据库存储该场景中至少一些物体的近似位置；识别被怀疑由至少一个清晰的光或辐射源投射的至少一个候选剪影；基于从数据库导出的数据，基于至少一个已识别的剪影，导出至少一个清晰的光或辐射源的属性。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 场景 清晰 导出 数据库 数据库存储 近似位置 阴影分析 投射 感测 照射 图像 辐射 分析 维护 | ||
【主权项】：
1.一种用于确定场景中的波源特性的方法，包括：/n感测包含表面和物体的场景的至少一个图像，其中，所述场景由至少一个清晰的辐射源照射；/n维护所述场景的数据库，所述数据库存储所述场景中至少一些所述物体的至少部分的近似位置；/n识别被怀疑由所述至少一个清晰的辐射源投射的至少一个候选剪影；/n基于从所述数据库导出的数据，基于至少一个所识别的轮廓，导出所述至少一个清晰的辐射源的属性；/n基于至少一个清晰的光源的所导出的属性计算剪影，并检查所计算的剪影所在的实际剪影是否存在，以验证所述至少一个清晰的辐射源的所导出的属性；以及/n基于所计算的剪影的属性与所述实际剪影的属性之间的差异，更新所述至少一个清晰的辐射源的属性。/n
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