[发明专利]曝光装置和曝光方法有效
| 申请号： | 201680079446.5 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108604069B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 野上朝彦 | 申请（专利权）人： | 迪睿合电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/207 | 分类号： | G03F7/207;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 金玉兰;王颖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的曝光装置(10)是向被载置的原盘(1)照射激光而曝光形成图案的曝光装置，具备：光学拾取器(12)，其出射激光并且能够调整激光的聚焦；控制部(19)，其使用总体表面形状数据来调整从光学拾取器(12)出射的激光的聚焦，该总体表面形状数据表示与原盘(1)的表面粗糙度、原盘(1)的倾斜度和原盘(1)的偏心中的至少一个对应的、原盘(1)的表面和光学拾取器(12)之间的相对位置关系。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于，向被载置的原盘照射激光而曝光形成图案，该曝光装置具备：光源装置，其出射所述激光并且能够调整所述激光的聚焦；以及控制部，其使用总体表面形状数据来调整从所述光源装置出射的激光的聚焦，所述总体表面形状数据表示与所述原盘的表面粗糙度、所述原盘的倾斜度和所述原盘的偏心中的至少一个对应的、所述原盘的表面和所述光源装置之间的相对位置关系。
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