[发明专利]具有磁性隧道结及热稳定性增强层的存储器单元有效

专利信息
申请号: 201680080416.6 申请日: 2016-12-19
公开(公告)号: CN108604632B 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: M·M·皮纳尔巴锡;B·A·考尔达斯 申请(专利权)人: 芯成半导体(开曼)有限公司
主分类号: H10N50/80 分类号: H10N50/80;H10N50/10;H10N50/85
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 章蕾
地址: 开曼群*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明揭示一种磁阻随机存取存储器MRAM装置。本文描述的所述装置在磁性隧道结的自由层上方具有热稳定性增强层。所述热稳定性增强层改进所述自由层的所述热稳定性,增加所述自由层的磁矩而不使所述自由层的磁性方向在平面内。所述热稳定性增强层可由CoFeB铁磁材料层构成。
搜索关键词: 具有 磁性 隧道 热稳定性 增强 存储器 单元
【主权项】:
1.一种磁性装置,其包括:底部电极,其位于第一平面中;垂直合成反铁磁结构,所述垂直合成反铁磁结构包含位于第二平面中的磁性参考层,所述磁性参考层具有垂直于所述第二平面的磁化方向并具有固定磁化方向;非磁性隧道势垒层,其位于第三平面中并安置在所述磁性参考层上方;自由磁性层,其位于第四平面中并安置在所述非磁性隧道势垒层上方,所述自由磁性层具有垂直于所述第四平面的磁化矢量并具有可从第一磁化方向切换到第二磁化方向的磁化方向,所述磁性参考层、所述非磁性隧道势垒层及所述自由磁性层形成磁性隧道结;非磁性热稳定性增强耦合层,其位于第五平面中并安置在所述自由磁性层上方;磁性热稳定性增强层,其位于第六平面中,所述磁性热稳定性增强层与所述自由磁性层物理分离并通过所述非磁性热稳定性增强耦合层耦合到所述自由磁性层,所述磁性热稳定性增强层具有垂直于所述第六层的磁化方向,并具有可从所述第一磁化方向切换到所述第二磁化方向的磁化方向,其中所述磁性热稳定性增强层从所述第一磁化方向到所述第二磁化方向的切换跟踪所述磁性自由层中的切换;及盖层,其位于第七平面中并安置在所述热稳定性增强层上方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芯成半导体(开曼)有限公司,未经芯成半导体(开曼)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680080416.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top