[发明专利]量测方法、目标和衬底有效
| 申请号： | 201680081072.0 | 申请日： | 2016-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108604065B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | M·J·J·加克;A·J·登博夫;M·艾伯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G01N21/47;G01N21/21;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法，包括：利用具有第一偏振的第一辐射束(940)照射量测目标(T)的至少第一周期结构(1010)，利用具有不同的第二偏振的第二辐射束(950)照射量测目标(T)的至少第二周期结构(1000)，将从第一周期结构(1010)衍射的辐射与从第二周期结构(1000)衍射的辐射进行组合以引起干涉，以及根据检测的组合辐射确定感兴趣的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 目标 衬底 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：利用具有第一偏振的第一辐射束照射量测目标的至少第一周期结构；利用具有不同的第二偏振的第二辐射束照射所述量测目标的至少第二周期结构；将从所述第一周期结构衍射的辐射与从所述第二周期结构衍射的辐射进行组合，以引起干涉；使用检测器来检测所组合的辐射；以及根据经检测的所组合的辐射来确定感兴趣的参数。
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