[发明专利]修饰的纳米孔,包含其的组合物及其应用有效

专利信息
申请号: 201680081416.8 申请日: 2016-12-08
公开(公告)号: CN109072295B 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 乔瓦尼·马利亚;洛伦佐·弗兰切斯基尼;蒂内·邦斯;安德鲁·约翰·赫伦;拉科马·尼尚萨·贾亚辛格;伊丽莎白·杰恩·华莱士 申请(专利权)人: 鲁汶大学研究与发展中心
主分类号: C12Q1/6869 分类号: C12Q1/6869
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 彭雪瑞;臧建明
地址: 比利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文提供涉及修饰或突变形式的溶细胞素A(ClyA)及包含其的组合物。特别地,修饰或突变形式的ClyA允许在低或生理离子强度下通过修饰的或突变的ClyA纳米孔对带负电荷的靶分子或聚合物有效捕获和/或转移。因此,还提供了使用修饰或突变形式的ClyA和组合物,例如表征带负电荷的靶分析物,例如靶多核苷酸的方法。
搜索关键词: 修饰 纳米 包含 组合 及其 应用
【主权项】:
1.一种修饰的ClyA纳米孔,包含顺式开口,中间部分和反式开口,其中所述顺式开口的内表面包含第一带正电荷的氨基酸取代;所述中间部分的内表面包含第二带正电荷的氨基酸取代;并且所述反式开口包含带负电荷的收缩部。
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