[发明专利]隔膜组件在审
| 申请号： | 201680081619.7 | 申请日： | 2016-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN108604058A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 德克·S·G·布龙;保罗·詹森;穆罕默德·R·卡迈利;玛丽亚·皮特;威廉·琼·范德赞德;彼得-詹·范兹沃勒;D·F·弗莱斯;W-P·福尔蒂森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/66 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于EUV光刻术的隔膜组件(80)，所述隔膜组件包括：平面的隔膜(40)；边框(81)，配置成保持隔膜；和框架组件(50)，连接到边框并且被配置成附接到用于EUV光刻术的图案形成装置(MA)；其中框架组件在垂直于隔膜的平面的方向上连接到边框，使得在使用中框架组件位于边框和图案形成装置之间。 | ||
| 搜索关键词： | 边框 隔膜组件 隔膜 图案形成装置 框架组件 平面的 中框架 配置 垂直 | ||
【主权项】：
1.一种用于EUV光刻术的隔膜组件，所述隔膜组件包括：平面的隔膜；边框，配置成保持所述隔膜；和框架组件，连接到所述边框并且被配置成可释放地附接到用于EUV光刻术的图案形成装置，其中所述框架组件包括弹性构件；其中所述框架组件在垂直于所述隔膜的平面的方向上连接到所述边框，使得在使用中所述框架组件位于所述边框和所述图案形成装置之间。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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