[发明专利]用于印刷特征阵列的方法和系统

摘要

一种用于将期望周期图案印刷到基底上的光敏层中的方法，其包括：提供承载周期图案的掩模，该周期图案的周期是期望图案的周期的倍数，将基底设置成接近掩模，提供用于照亮所述掩模图案的至少一个射束以生成用塔尔博特距离描述的透射光场，在许多子曝光中通过在使基底和掩模之间的间隔改变达塔尔博特距离的至少某一分数且小于塔尔博特距离的同时利用至少一个射束照亮掩模图案来将该层曝光给时间积分强度分布，为不同子曝光配置照明或相对于掩模的基底，以使得该层被曝光给在某一方向上且相互横向偏移达某一距离的相同的时间积分强度分布。

主权项

1.一种用于将期望的一维周期图案印刷到光敏层中的方法，该方法包括：a）提供承载线性特征的周期掩模图案的掩模，该周期掩模图案的周期是期望的一维周期图案的周期的两倍；b）提供承载光敏层的基底；c）将基底设置成平行且接近掩模；d）提供用于照亮所述掩模图案的准直单色光的至少一个射束以生成用塔尔博特距离描述的透射光场；e）将光敏层曝光给第一子曝光的时间积分强度分布和第二子曝光的时间积分强度分布，其中所述时间积分强度分布是基本上相同的并且是通过在使基底和掩模之间的间隔改变达作为塔尔博特距离的至少四分之一且小于塔尔博特距离的距离的同时利用该至少一个射束照亮掩模图案而形成的；f）为第一和第二子曝光配置至少一个射束或基底相对于掩模的横向位置，以使得由第一和第二子曝光的时间积分强度分布对光敏层的曝光在与线性特征正交的方向上相互横向偏移达掩模图案的周期的一半的距离，或达等效的距离；其中该掩模图案的周期比照明射束的波长的两倍更大。