[发明专利]用于去除衬底上的光敏材料的方法在审
| 申请号： | 201680082291.0 | 申请日： | 2016-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN108700815A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | C·W·J·贝伦德森;G·纳吉布奥格鲁;D·D·J·A·范索姆恩;G·里斯朋斯;J·F·M·贝克尔斯;T·J·A·伦克斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供了一种处理衬底的方法，包括：提供衬底，所述衬底在所述衬底的表面上具有光敏材料层；和从光敏材料层的外边缘周围去除光敏材料，并控制所述去除以在衬底的表面上遗留的光敏材料层周围产生具有径向宽度的边缘，其中所述光敏材料的厚度变化，形成横跨径向宽度的厚度轮廓，并且所述去除被控制以产生厚度轮廓沿着所述边缘的长度的变化，和/或其中所述去除被控制以在衬底的表面上遗留的光敏材料层周围产生粗糙边缘。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 去除 光敏材料层 光敏材料 厚度轮廓 粗糙边缘 厚度变化 遗留 外边缘 横跨 | ||
【主权项】：
1.一种处理衬底的方法，包括：提供衬底，所述衬底在所述衬底的表面上具有光敏材料层；和从所述光敏材料层的外边缘周围去除光敏材料并控制所述去除以在衬底的表面上遗留的光敏材料层周围产生具有径向宽度的边缘，其中，所述光敏材料的厚度变化，形成了横跨所述径向宽度的厚度轮廓，并且所述去除被控制以产生所述厚度轮廓沿着所述边缘的长度的变化。
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