[发明专利]用于优化干涉仪的光学性能的方法和装置有效
| 申请号： | 201680082468.7 | 申请日： | 2016-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN108700512B | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | L.L.德克 | 申请（专利权）人： | 齐戈股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/45 | 分类号： | G01N21/45;G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邵亚丽 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法，包括使用装置在装置的第一表面处测量具有一个或多个具有已知形貌的表面特征的人工制品的第一表面场。该方法包括基于包含一个或多个表面特征的第一表面轮廓的至少一部分来确定第一表面处的第一焦点度量。该方法包括将第一表面场数字地变换为装置的第二表面处的第二表面场，从第二表面场导出第二表面轮廓并为第二表面轮廓计算第二焦点度量，并且基于两个或更多个焦点度量值确定用于评估仪器传递函数的最优表面。该方法包括基于从最优表面的表面场导出的表面轮廓的至少一部分来确定装置的仪器传递函数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 优化 干涉仪 光学 性能 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种确定装置的仪器传递函数的方法，所述方法包括：使用所述装置在所述装置的第一表面处测量具有一个或多个具有已知形貌的表面特征的人工制品的第一表面场，所述第一表面场是复合电磁场；使用电子处理器从所述第一表面场导出第一表面轮廓；使用所述电子处理器从所述第一表面轮廓识别所述一个或多个表面特征；使用所述电子处理器基于包含所述表面特征的所述第一表面轮廓的至少一部分来确定所述第一表面处的第一焦点度量；使用所述电子处理器将所述第一表面场数字地变换为所述装置的第二表面处的第二表面场，所述第二表面场是复合电磁场；使用所述电子处理器从所述第二表面场导出第二表面轮廓并且为所述第二表面轮廓计算第二焦点度量，所述第二焦点度量具有与所述第一焦点度量不同的值；基于至少所述第一焦点度量和所述第二焦点度量来确定用于评估所述仪器传递函数的最优表面；以及使用所述电子处理器基于在所述最优表面处获得的表面轮廓的至少一部分来确定所述装置的所述仪器传递函数。
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