[发明专利]刮开式结构有效

专利信息
申请号: 201680083853.3 申请日: 2016-04-20
公开(公告)号: CN108778765B 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: I.措米克;H.罗恩;S.布兰德里斯;G.罗曼特科夫;F.科甘 申请(专利权)人: 惠普印迪戈股份公司
主分类号: B41M3/00 分类号: B41M3/00;A63F3/06;B42D15/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 马蔚钧;杨思捷
地址: 荷兰阿姆*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文中描述了按顺序包括以下层的刮开式结构:具有在其上显示信息的第一层的基底;包含聚合物膜并且基本透明的第二层;包含透明静电墨水的第三层;第四层,其中该第四层是着色的。还描述了制造刮开式结构的方法和刮开式结构的集合。
搜索关键词: 刮开式 结构
【主权项】:
1.制造刮开式结构的方法,所述方法包括:提供具有在其上显示信息的第一层的基底,和覆盖所述第一层的第二层,所述第二层包含聚合物膜并且是基本透明的;在第二层上静电印刷第三层,所述第三层包含透明静电墨水;在第三层上设置第四层,所述第四层是着色的。
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