[发明专利]释放层在审
| 申请号： | 201680084113.1 | 申请日： | 2016-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN108780293A | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | D.利布斯特;R.斯利夫尼亚克;S.伊诺塔埃夫;R.卡哈塔比 | 申请（专利权）人： | 惠普印迪戈股份公司 |
| 主分类号： | G03G15/16 | 分类号： | G03G15/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 马蔚钧;杨思捷 |
| 地址： | 荷兰阿姆*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文中描述了包含硅酮聚合物基质、炭黑和三硅氧烷表面活性剂的释放层。 | ||
| 搜索关键词： | 释放层 三硅氧烷表面活性剂 硅酮聚合物 基质 炭黑 | ||
【主权项】：
1.用于静电印刷过程的中间转印件（ITM），所述中间转印件包括外部释放层，所述外部释放层包含硅酮聚合物基质、炭黑和三硅氧烷表面活性剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普印迪戈股份公司，未经惠普印迪戈股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680084113.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：液体电子照相印刷设备和中间转印件
- 下一篇：显影盒
