[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201680084542.9 申请日: 2016-10-31
公开(公告)号: CN109075159B 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 吉田基;末广善幸;须贺原和之;中西洋介;横山吉典;曾田真之介;林功明 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H01L21/52;H01L23/40;H01L25/18
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 金春实
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供导热性高、且工作性优异的半导体装置。半导体装置(101)具备绝缘基板(13)、半导体元件(11)、管芯接合材料(22)、接合材料(23)以及冷却构件(12)。绝缘基板(13)具有绝缘陶瓷(6)、设置于绝缘陶瓷(6)的一个面的导板(5)以及设置于另一个面的导板(7)。半导体元件(11)经由管芯接合材料(22)设置在导板(5)上。在管芯接合材料(22)中采用烧结金属。半导体元件(11)的弯曲强度为700MPa以上,其厚度为0.05mm以上且0.1mm以下。冷却构件(12)经由接合材料(23)接合于导板(7)。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
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