[发明专利]透明高屏蔽膜、以及使用了它的高屏蔽层叠体有效
申请号: | 201680085697.4 | 申请日: | 2016-09-06 |
公开(公告)号: | CN109154081B | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 河合公雄;西山了;吉田和巳 | 申请(专利权)人: | 株式会社丽光 |
主分类号: | C23C16/42 | 分类号: | C23C16/42;B32B9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王永红 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种可以作为医疗用品的包装材料、柔性密封材料使用的兼具柔软性和高屏蔽性的高屏蔽膜。本发明的透明高屏蔽膜的特征在于,是在塑料膜上至少层叠有屏蔽层的透明屏蔽膜,满足(A)~(C)的全部条件,(A)屏蔽层是将依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的单元层叠2次以上的层。(B)屏蔽层A是利用XPS进行碳的定量分析时的碳的含有比例为大于0%且小于15%的范围的、由SiOC形成的层。(C)屏蔽层B是利用XPS进行碳的定量分析时的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.1~4.0倍的范围的、由SiOC形成的层。 | ||
搜索关键词: | 透明 屏蔽 以及 使用 层叠 | ||
【主权项】:
1.一种透明高屏蔽膜,其特征在于,是在塑料膜的一面或两面至少层叠有屏蔽层的透明屏蔽膜,满足以下(A)~(C)的全部条件:(A)屏蔽层是以依次层叠屏蔽层A、屏蔽层B、以及屏蔽层A而得的层作为单元、且层叠有2次以上的该单元的层;(B)屏蔽层A是对屏蔽层A利用X射线光电子分光分析法XPS进行碳的定量分析时的碳的含有比例为大于0%且小于15%的范围的、由SiOC形成的层;(C)屏蔽层B是对屏蔽层B利用X射线光电子分光分析法XPS进行碳的定量分析时的碳的含有比例为屏蔽层A的碳的含有比例的1.1~4.0倍的范围的、由SiOC形成的层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的