[发明专利]光谱选择性回射系统在审

专利信息
申请号: 201680091030.5 申请日: 2016-12-01
公开(公告)号: CN109983371A 公开(公告)日: 2019-07-05
发明(设计)人: 约翰·A·惠特利;吉勒·J·伯努瓦;堵光磊;史蒂文·R·安德森;欧文·M·安德森;大卫·T·尤斯特;罗尔夫·W·比尔纳特;加里·E·盖德斯;布莱恩·W·利克;尼拉杰·夏尔马 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G02F1/1335;G02B5/12
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾红霞;张芸
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种回射系统,该回射系统包括用于回射光的回射片和设置在该回射片上的光控膜。对于第一波长,以第一入射角和第二入射角中的各者入射在该光控膜上的光被回射。对于第二波长,以第一入射角而非第二入射角入射在该光控膜上的光被回射。
搜索关键词: 回射 入射角 光控膜 回射片 波长 入射 光谱选择性
【主权项】:
1.一种回射系统,所述回射系统包括:用于回射光的回射片;和设置在所述回射片上的光控膜,使得对于第一波长,以第一入射角和第二入射角中的各者入射在所述光控膜上的光被回射,并且对于第二波长,以所述第一入射角而非所述第二入射角入射在所述光控膜上的光被回射。
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