[发明专利]光刻机照明均匀性校正装置和校正方法有效
| 申请号： | 201710000725.4 | 申请日： | 2017-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN107065443B | 公开（公告）日： | 2018-07-13 |
| 发明（设计）人： | 程伟林;张方;杨宝喜;黄惠杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻机照明均匀性校正装置和校正方法，校正装置包括基座、上校正模块和下校正模块。上校正模块与下校正模块放置于照明光场的扫描方向的两侧，且相对于照明光场非扫描方向对称分布。其中上校正模块与下校正模块中均有一块柔性薄板，通过控制该柔性薄板横截面上不同点的位移来得到相应的挠曲变形，并沿照明光场扫描方向运动进入照明光场以遮挡部分照明光，从而达到校正照明均匀性的目的。因柔性薄板发生挠曲变形后的轮廓为连续曲线，所以本发明的装置具有更高的校正能力和校正分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 校正模块 校正 照明光场 柔性薄板 照明均匀性校正装置 挠曲变形 扫描方向 光刻机 扫描方向运动 照明均匀性 对称分布 连续曲线 校正装置 分辨率 照明光 遮挡 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机照明均匀性校正装置，其特征在于该装置包括基座(41)、上校正模块(42)和下校正模块(43)，所述的上校正模块(42)和下校正模块(43)具有相同结构,分别固定于所述的基座(41)的上部与下部，并相对于所述基座(41)的中心平面对称分布；光刻机照明光场(290)垂直于该中心平面，两平面的交点为坐标系原点，垂直于所述光刻机照明光场(290)为光轴方向，即z轴，垂直于中心平面为光刻机照明系统的扫描方向，即y轴，x轴为光刻机照明系统的非扫描方向；所述的上校正模块(41)包括上校正模块基板(51)、柔性薄板(54)、上导杆阵列(53)、上导向模块阵列(55)、上驱动源阵列(57)、上驱动源安装支架(52)和上连接板(56)；所述的上导向模块阵列(55)的固定部件与所述的上校正模块基板(51)固定，所述的上驱动源阵列(57)通过所述的上驱动源安装支架(52)固定在所述的上校正模块基板(51)上，所述的上导杆阵列(53)依次沿光刻机照明光场(290)的非扫描方向排布在光刻机照明光场(290)的扫描方向的一侧，所述的上导杆阵列(53)的所有导杆的一端均与所述的柔性薄板(54)的横截面固定，另一端依次与对应位置的上导向模块阵列(55)的水平移动部件的上表面固定，所述的上驱动源阵列(57)通过所述的上连接板(56)依次与对应位置的上导向模块阵列(55)的水平移动部件的下表面连接，为其提供相互独立的动力源用以驱动所述的上导杆阵列(53)沿扫描方向移动，所述的上导杆阵列(53)中每个导杆带动所述柔性薄板(54)横截面上对应固定点沿扫描方向移动，使所述的柔性薄板(54)产生挠曲变形，并沿扫描方向运动进入光刻机照明光场(290)以遮挡部分照明光；所述的上校正模块(42)中的柔性薄板与所述的下校正模块(43)中的柔性薄板设置在同一平面内。
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