[发明专利]用于黑矩阵的组合物及其制备方法、显示基板和显示装置有效
申请号: | 201710001229.0 | 申请日: | 2017-01-03 |
公开(公告)号: | CN106855681B | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 齐鹏煜;汪栋;郭杨辰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/032 | 分类号: | G03F7/032;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请提供了一种用于黑矩阵的组合物及其制备方法、显示基板和显示装置,该用于黑矩阵的组合物包括:胶粘剂、遮光材料、溶剂、第一染料和单体,其中,所述遮光材料包括遮光颗粒、依次包覆所述遮光颗粒的电性隔绝材料和基底材料;所述单体连接所述胶粘剂和所述第一染料以及所述遮光材料。本发明的实施例提供的用于黑矩阵的组合物相比于常规的制备黑矩阵的材料具有更高的阻抗和光密度值。 | ||
搜索关键词: | 用于 矩阵 组合 及其 制备 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】:
一种用于黑矩阵的组合物,包括:胶粘剂、遮光材料、溶剂、第一染料和单体,其中,所述遮光材料包括遮光颗粒和依次包覆所述遮光颗粒的电性隔绝材料和基底材料;所述单体连接所述胶粘剂和所述第一染料以及所述遮光材料。
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