[发明专利]镀膜设备在审

专利信息
申请号: 201710001780.5 申请日: 2017-01-03
公开(公告)号: CN106783500A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 高会朝;冯海清 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 代理人: 滕一斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种镀膜设备,属于镀膜技术领域。镀膜设备包括相对设置的第一极板和第二极板,第二极板靠近第一极板的表面设置有开口面面积大于底面面积的凹槽,凹槽的截面为梯形,截面垂直于开口面,底面用于平置待镀膜基板。本发明解决了基板表面较容易发生断裂的问题,实现了防止待镀膜基板表面发生断裂的效果,本发明用于镀膜。
搜索关键词: 镀膜 设备
【主权项】:
一种镀膜设备,其特征在于,所述镀膜设备包括:相对设置的第一极板和第二极板,所述第二极板靠近所述第一极板的表面设置有开口面面积大于底面面积的凹槽,所述凹槽的截面为梯形,所述截面垂直于所述开口面,所述底面用于平置待镀膜基板。
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