[发明专利]一种基于弧靶中毒效应的类金刚石薄膜制备方法在审
| 申请号： | 201710003710.3 | 申请日： | 2017-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN108374148A | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 刘星;马国佳;孙刚;周树青 | 申请（专利权）人： | 中国航空工业集团公司北京航空制造工程研究所 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06;C23C14/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100024 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于弧靶中毒效应的类金刚石薄膜（简称DLC薄膜）制备方法，利用弧靶中毒效应，采用阴极弧沉积设备，连续进行DLC薄膜多层结构的制备，调控润滑层与基体材料的结合状态，提高结合强度，降低DLC薄膜的脆性、增加其承载能力；同时在DLC薄膜中均匀掺杂金属相，进一步提高DLC薄膜的韧性达到提高薄膜耐磨、润滑性、承载能力及结合强度的目的。所述DLC薄膜多层结构，包括金属结合层（a）、承载层及过度层（b）、金属掺杂DLC润滑层（c）。本发明制备过程连续性好，设备简单、工艺实施方便，不需要多个弧靶及气体离子源系统，填补了国内外进行相关模具防护涂层的市场空白，具有巨大的潜在应用及推广价值。 | ||
| 搜索关键词： | 靶中毒 制备 类金刚石薄膜 承载能力 多层结构 润滑层 脆性 金属结合层 气体离子源 沉积设备 防护涂层 工艺实施 基体材料 结合状态 金属掺杂 均匀掺杂 市场空白 制备过程 承载层 过度层 金属相 润滑性 阴极弧 耐磨 薄膜 模具 填补 调控 应用 | ||
【主权项】：
1.一种基于弧靶中毒效应的类金刚石薄膜制备方法，其特征在于，利用弧靶中毒效应，采用阴极弧沉积设备，连续进行DLC薄膜多层结构的制备，调控润滑层与基体材料的结合状态，提高结合强度，降低DLC薄膜的脆性、增加其承载能力；同时在DLC薄膜中均匀掺杂金属相，达到提高薄膜耐磨、润滑性、承载能力及结合强度的目的；所述DLC薄膜多层结构，包括金属结合层（a）、承载层及过度层（b）、金属掺杂DLC润滑层（c），每层结构具有不同的作用，分别起到结合、承载、耐磨及润滑作用。
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