[发明专利]触控基板及其制备方法、触摸屏有效

专利信息
申请号: 201710003968.3 申请日: 2017-01-04
公开(公告)号: CN106502473B 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 王静;谢晓冬;何敏;张贵玉;许邹明;郑启涛;田新斌;李冬 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/044;G02F1/1333;G02F1/1335
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 汪源;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种触控基板及其制备方法、触摸屏,包括:衬底基板和遮光图形;在触控区域内,形成有位于衬底基板上方的触控单元和位于触控单元上方的第一消影图形;在功能孔区域内,形成有位于衬底基板上方第一绝缘层、位于第一绝缘层上方且覆盖功能孔区域内部分区域的第二消影图形、位于第二消影图形的上方或下方且与第二消影图形对应设置的增透图形。本发明的技术方案通过在功能孔区域内部分区域设置消影图形和增透图形,以使得功能孔区域内设置有消影图形和增透图形的区域具有相对较高的透光率和色度,而未设置有消影图形和增透图形的区域具有相对较低的透光率和色度,此时可使得功能孔区域的整体透光率相对较高且整体色度相对较低。
搜索关键词: 触控基板 及其 制备 方法 触摸屏
【主权项】:
1.一种触控基板,其特征在于,包括:衬底基板,所述衬底基板上形成有遮光图形,所述遮光图形限定出触控区域和功能孔区域;在所述触控区域内,形成有位于所述衬底基板上方的触控单元和位于触控单元上方的第一消影图形;在所述功能孔区域内,形成有位于所述衬底基板上方第一绝缘层、位于所述第一绝缘层上方且覆盖所述功能孔区域内部分区域的第二消影图形、位于所述第二消影图形的上方或下方且与所述第二消影图形对应设置的增透图形;所述第一消影图形与所述第二消影图形同层设置,所述增透图形用于提升所述第二消影图形所对应的区域的透光率。
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