[发明专利]一种碳纳米管束场效应晶体管阵列及其制造方法有效
申请号: | 201710004518.6 | 申请日: | 2017-01-04 |
公开(公告)号: | CN108269802B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 肖德元 | 申请(专利权)人: | 上海新昇半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/088 | 分类号: | H01L27/088;H01L29/06;H01L21/336 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 刘星 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种碳纳米管束场效应晶体管阵列及其制造方法,所述碳纳米管束场效应晶体管阵列包括:源极材料层、漏极材料层以及连接于所述源极材料层与漏极材料层之间的碳纳米管束阵列;所述碳纳米管束阵列包括若干分立设置的碳纳米管束单元,其中,所述碳纳米管束单元的轴向第一端与所述源极材料层连接,所述碳纳米管束单元的轴向第二端与所述漏极材料层连接;所述碳纳米管束单元被栅极结构所包围。本发明的碳纳米管束场效应晶体管阵列能够耐受更高的操作电压及操作电流,能够应用于大功率器件。并且本发明采用环栅结构,可以提高栅极对沟道的操控能力。本发明的碳纳米管束场效应晶体管阵列的制造方法具有工艺步骤简单的特点,有利于降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 管束 场效应 晶体管 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种碳纳米管束场效应晶体管阵列,其特征在于,包括:源极材料层;漏极材料层,形成于所述源极材料层上方;碳纳米管束阵列,连接于所述源极材料层与所述漏极材料层之间;所述碳纳米管束阵列包括若干分立设置的碳纳米管束单元,其中,所述碳纳米管束单元的轴向第一端与所述源极材料层连接,所述碳纳米管束单元的轴向第二端与所述漏极材料层连接;栅极结构,形成于所述碳纳米管束阵列中各个碳纳米管束单元之间,且所述栅极结构与所述源极材料层之间通过第一绝缘层隔离,所述栅极结构与所述漏极材料层之间通过第二绝缘层隔离;其中,所述栅极结构包括栅极介质层及栅极材料层,所述栅极介质层包围所述碳纳米管束单元的外侧面,所述栅极材料层包围所述栅极材料层外侧面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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