[发明专利]使用基于等离子体的工艺消除氟残余物的系统和方法有效
| 申请号： | 201710007537.4 | 申请日： | 2017-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN106952799B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 安德鲁·斯特拉顿·布拉沃;乔迪普·古哈;阿米特·法尔克亚 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;包孟如 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及使用基于等离子体的工艺消除氟残余物的系统和方法。一种用于操作衬底处理室的方法，包括在所述衬底处理室中使用氟基气体执行处理之后：a)在第一预定时间段期间，将气体混合物供应到所述衬底处理室并且提供RF功率以在衬底处理室中激励等离子体，所述气体混合物包括选自由分子氧、分子氮、一氧化氮和一氧化二氮组成的组中的一种或者多种气体；b)在所述第一预定时间段之后的第二预定时间段期间，向所述衬底处理室供应分子氢气体和RF功率；c)重复a)和b)一次或多次；d)用分子氮气吹扫所述衬底处理室；e)增加室压强；f)排空所述衬底处理室；和g)重复d)、e)和f)一次或多次。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 基于 等离子体 工艺 消除 残余物 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于操作衬底处理室的方法，包括：在所述衬底处理室中使用氟基气体进行处理之后的以下步骤：a)在第一预定时间段期间，向所述衬底处理室供应气体混合物并且供应RF功率以在所述衬底处理室激励等离子体，所述气体混合物包括选自由分子氧、分子氮、一氧化氮和一氧化二氮构成的组中的一种或多种气体；b)在所述第一预定时间段之后的第二预定时间段期间，向所述衬底处理室供应分子氢气体和RF功率；c)重复a)和b)一次或多次；d)用分子氮气体吹扫所述衬底处理室；e)增加室压强；f)排空所述衬底处理室；以及g)重复d)、e)和f)一次或多次。
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