[发明专利]一种灰阶掩膜版及利用其形成的显示基板、曝光装置

摘要

本发明涉及一种灰阶掩膜版及利用其形成的显示基板、曝光装置，用以解决彩膜基板制作过程中，常规掩膜版制作的膜层边缘的倾斜角度较大的问题。该灰阶掩膜版包括掩膜版主体，以及至少一个曝光区；曝光区包括位于中间且完全透光的中心区域，以及分别设置在中心区域两侧且部分透光的边缘区域；边缘区域的透光强度小于中心区域的透光强度。本发明在灰阶掩膜版的曝光区设置有透光强度渐变的多个区域，位于中间位置且透光强度最大的中心区域能够形成膜层的主体部分，透光强度较小的边缘区域能够形成膜层的倾斜坡度部分，因而可以使待曝光的膜层的边缘更平缓，同时能够通过调节曝光量得到更小的线宽和更大的线宽调节范围，有利于残影等不良的改善。

主权项

一种灰阶掩膜版，其特征在于，包括：掩膜版主体，以及设置在所述掩膜版主体上的至少一个曝光区；其中，所述曝光区包括位于中间位置且完全透光的中心区域，以及分别设置在所述中心区域两侧且部分透光的边缘区域；所述中心区域对应形成待曝光图形的主体部分，所述边缘区域对应形成所述待曝光图形中具有一定倾斜角度的边缘斜坡部分；所述边缘区域的透光强度小于所述中心区域的透光强度。