[发明专利]一种检测透明材料表面和内部缺陷的暗场显微成像装置在审

专利信息
申请号: 201710011933.4 申请日: 2017-01-09
公开(公告)号: CN106770329A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 刘乾;袁道成;吉方;何建国 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心51210 代理人: 翟长明,韩志英
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了一种检测透明材料表面和内部缺陷的暗场显微成像装置。本发明的暗场显微成像装置由沿同一轴线依次放置的暗场照明单元、遮挡物和成像显微镜组成,暗场照明单元由光源和照明镜头组成,待检测的透明材料置于照明镜头与遮挡物之间,遮挡物尺寸小于成像显微镜第一面透镜的尺寸。成像显微镜之前的遮挡物可以阻挡暗场照明单元的照明直射光进入显微镜,被缺陷散射的光则可以绕过遮挡物进入成像显微镜,形成暗场图像。本发明能够为工业生产和科学研究中的透明材料表面和内部的缺陷检测提供一种有效便利的手段,具有成本低、易对准、材料厚度适应性广等优点。
搜索关键词: 一种 检测 透明 材料 表面 内部 缺陷 暗场 显微 成像 装置
【主权项】:
一种检测透明材料表面和内部缺陷的暗场显微成像装置,其特征在于:所述的暗场显微成像装置包括暗场照明单元、遮挡物(7)、成像显微镜(8);所述的暗场照明单元由光源(1)和照明镜头(2)组成,光源(1)、照明镜头(2)、遮挡物(7)、成像显微镜(8)依次设置在同轴光路上;待检测的透明材料(4)设置于照明镜头(2)与遮挡物(7)之间位于成像显微镜(8)的成像面上;所述的光源(1)发出的照明直射光(3)依次经照明镜头(2)、透明材料(4)后照射在遮挡物(7)上;所述的照明直射光(3)射在遮挡物(7)上的光斑小于遮挡物(7)的尺寸;所述的遮挡物(7)的尺寸小于成像显微镜(8)内第一面透镜的尺寸。
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