[发明专利]一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液有效
| 申请号： | 201710017150.7 | 申请日： | 2017-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN106811135B | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 董会;潘金龙;王利利;王超;李晓媛;高伟;黄姝珂;吉方;王宝瑞 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 翟长明;韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液，所述抛光液由油相、分散相溶剂、酸性离子液体（AIL）、表面活性剂以及助表面活性剂组成。在表面活性剂和助表面活性剂的作用下，AIL溶液作为分散相被包覆在油相中，形成油包酸性离子液体微乳液（AIL/O）。在化学机械抛光时，AIL/O微乳液受到挤压和摩擦作用，AIL分子突破界面膜达到晶体表面，并与表面凸起部位发生化学反应，实现表面的选择性去除。本发明的用于KDP晶体的AIL/O抛光液，制备简单、性质稳定，综合考虑了KDP晶体的反应特性和化学机械抛光技术的特点，既具备了微乳液潮解抛光的高选择性，又兼容了有机酸/碱腐蚀抛光的优点，能够有效的削弱飞切刀纹，降低表面粗糙度，并且表面无残留。 | ||
| 搜索关键词： | 酸性离子液体 抛光液 微乳液 油包 化学机械抛光 助表面活性剂 表面活性剂 抛光 化学反应 表面粗糙度 分散相溶剂 选择性去除 表面凸起 反应特性 高选择性 晶体表面 摩擦作用 性质稳定 综合考虑 分散相 碱腐蚀 界面膜 无残留 有机酸 包覆 潮解 切刀 制备 挤压 兼容 削弱 | ||
【主权项】：
1.一种用于KDP晶体的油包酸性离子液体抛光液，其特征在于：所述的抛光液各组分的质量百分比为：油相：25%~60%；分散相溶剂：10%~15%；酸性离子液体：5%~15%；表面活性剂：15%~45%；助表面活性剂：5%~15%；所述的油相为非极性有机溶剂，环己烷、正己烷、单油酸甘油酯、三油酸甘油酯或三辛酸甘油酯中的一种；所述的分散相溶剂为乙醇、异丙醇或1‑己基‑3‑甲基咪唑六氟磷酸盐中的一种；所述的酸性离子液体为双三氟甲磺酰亚胺、己内酰胺磷酸盐、N，N′‑二甲基甲酰胺磷酸盐、1‑丁基‑3‑甲基咪唑硫酸氢盐或吡啶硫酸氢盐中的一种；所述的表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚、烷基聚氧乙烯醚或脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种；所述的助表面活性剂为正丁醇、正戊醇、正己醇或正辛醇中的一种。
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