[发明专利]氧化物薄膜晶体管及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710017280.0 申请日: 2017-01-10
公开(公告)号: CN108288650B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 黄梦;文国哲 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/417;H01L29/43;H01L21/34
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种氧化物薄膜晶体管及其制造方法,其中,所述氧化物薄膜晶体管包括:衬底以及形成于所述衬底上的金属氧化物有源层、栅极绝缘层、栅极、源极、漏极、中间层和源漏引线层,所述栅极绝缘层和中间层包围所述栅极,所述源极和漏极位于所述栅极的相对两侧,且与所述源漏引线层连接;其中,所述源极和漏极均具有一合金层,所述合金层与所述金属氧化物有源层相接触。在本发明提供的氧化物薄膜晶体管及其制造方法中,通过采用具有场松弛效果顶栅结构,以降低栅极与源极、漏极之间的场效应对于薄膜晶体管性能的影响,同时在金属氧化物有源层上形成了合金层,以避免器件中的氢渗透至金属氧化物有源层中与氧结合形成氧空位,由此提高所述氧化物薄膜晶体管的可靠性。
搜索关键词: 氧化物 薄膜晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种氧化物薄膜晶体管,其特征在于,包括:衬底以及形成于所述衬底上的金属氧化物有源层、栅极绝缘层、栅极、源极、漏极、中间层和源漏引线层,所述栅极绝缘层和中间层包围所述栅极,所述源极和漏极位于所述栅极的相对两侧,且与所述源漏引线层连接;其中,所述源极和漏极均具有一合金层,所述合金层与所述金属氧化物有源层相接触。
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