[发明专利]掩膜板及其制造方法有效
| 申请号： | 201710017420.4 | 申请日： | 2017-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN106502044B | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 吴康成 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种掩膜板及其制造方法，其中，所述掩膜板的制造方法包括：提供一衬底；将所述衬底的一个表面加工成凹面；以及在所述凹面上制作掩膜图形。在本发明提供的掩膜板及其制造方法中，通过将掩膜板的掩膜面加工成凹面，使得所述掩膜板因自重弯曲时其掩膜面接近于平面，由此确保曝光间距的一致性，进而保证曝光后的图形尺寸的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板的制造方法，其特征在于，包括：/n提供一衬底；/n将所述衬底的一个表面加工成凹面，所述凹面的形状是根据形变模拟结果加工的；以及/n在所述凹面上制作掩膜图形，其中，将所述衬底的一个表面加工成凹面的过程包括：/n测量所述衬底的外形尺寸和重量；/n根据所述衬底的外形尺寸和重量对掩膜板进行形变模拟；以及/n根据形变模拟结果对所述衬底的一个表面进行加工，以形成凹面。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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