[发明专利]一种双基合成孔径雷达成像方法和装置在审

专利信息
申请号: 201710019315.4 申请日: 2017-01-11
公开(公告)号: CN106842200A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 张衡;邓云凯;王宇;唐江文;王吉利;李宁;周春晖 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90;G01S7/41
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 代理人: 张振伟,姚开丽
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种双基合成孔径雷达(BiSAR)成像方法,对回波数据进行距离向压缩,确定距离向压缩的数据,所述距离向压缩数据作为第一待分解数据用于第一次分解;从n为1起重复执行下述操作,每次n加1,直至n达到N对第n待分解数据进行升采样处理,对升采样后的数据进行第n次分解,确定参考点到合成前后子孔径的斜距依赖关系,根据所述斜距依赖关系,对第n次分解得到的数据进行第n次方位向合成处理,得到第n方位向合成数据,所述第n方位向合成数据作为第n+1待分解数据用于第n+1次分解;其中,N为大于1的正整数;对第N方位向合成数据采用后向投影(BP)算法进行方位向聚焦,得到聚焦图像。本发明还同时公开了一种基于BiSAR成像装置。
搜索关键词: 一种 合成孔径雷达 成像 方法 装置
【主权项】:
一种双基合成孔径雷达BiSAR成像方法,其特征在于,所述方法包括:对回波数据进行距离向压缩,确定距离向压缩的数据,所述距离向压缩数据作为第一待分解数据用于第一次分解;从n为1起重复执行下述操作,每次n加1,直至n达到N:对第n待分解数据进行升采样处理,对升采样后的数据进行第n次分解,确定参考点到合成前后子孔径的斜距依赖关系,根据所述斜距依赖关系,对第n次分解得到的数据进行第n次方位向合成处理,得到第n方位向合成数据,所述第n方位向合成数据作为第n+1待分解数据用于第n+1次分解;其中,N为大于1的正整数;对第N方位向合成数据采用后向投影BP算法进行方位向聚焦,得到聚焦图像。
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