[发明专利]自灌溉景观花盆在审

专利信息
申请号: 201710019446.2 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN106818278A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 朱勇;吴莲珍 申请(专利权)人: 浙江国盛园林工程有限公司
主分类号: A01G9/02 分类号: A01G9/02;A01G27/02
代理公司: 北京维正专利代理有限公司11508 代理人: 倪志华
地址: 325000 浙江省温州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种自灌溉景观花盆,包括安装块,所述安装块一端凹陷形成圆柱状凹槽,所述安装块内设置有用于储水的蓄水腔,所述凹槽的槽底设置有连通凹槽和蓄水腔的多个连通孔,所述凹槽中设置有用于种植花草且与凹槽的侧壁抵接的盆体,所述盆体的外侧壁设置有第一磁块,所述凹槽的侧壁设置有与第一磁块产生磁性吸合的第二磁块,所述盆体的侧壁设置有第一进水孔,所述凹槽的侧壁设置有连通凹槽和蓄水腔的第二进水孔,当第一进水孔和第二进水孔对齐时,水经过第二进水孔和第一进水孔进入盆体。本发明的有益效果该自灌溉景观花盆无需人们去观察即可自动实现对上盆体进行加水。
搜索关键词: 灌溉 景观 花盆
【主权项】:
一种自灌溉景观花盆,包括安装块(1),所述安装块(1)一端凹陷形成圆柱状凹槽(4),所述安装块(1)内设置有用于储水的蓄水腔(2),其特征是:所述凹槽(4)的槽底设置有连通凹槽(4)和蓄水腔(2)的多个连通孔(5),所述凹槽(4)中设置有用于种植花草且与凹槽(4)的侧壁抵接的盆体(13),所述盆体(13)的外侧壁设置有第一磁块(17),所述凹槽(4)的侧壁设置有与第一磁块(17)产生磁性吸合的第二磁块(12),所述盆体(13)的侧壁设置有第一进水孔(15),所述凹槽(4)的侧壁设置有连通凹槽(4)和蓄水腔(2)的第二进水孔(7),当第一进水孔(15)和第二进水孔(7)对齐时,水经过第二进水孔(7)和第一进水孔(15)进入盆体(13)。
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