[发明专利]出口截面流场参数可控的内转式进气道基本流场设计方法有效

专利信息
申请号: 201710022083.8 申请日: 2017-01-12
公开(公告)号: CN106650173B 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 乔文友;余安远;吴颖川;王宇辉;黎崎 申请(专利权)人: 西南科技大学;中国人民解放军63820部队吸气式高超声速技术研究中心
主分类号: G06F30/17 分类号: G06F30/17;G06F30/28
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢;葛启函
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种出口截面流场参数可控的内转式进气道基本流场设计方法,根据出口截面的一种流场参数分布来设计基本流场下边界的形状,所述方法首先根据反射激波顶点处的波后流场参数来设计可生成反射激波的气动型面,然后根据出口截面的一种流场参数分布来设计可将反射激波的波后依赖域出口下游流场参数调整至与出口截面流场参数分布一致的气动型面,本发明只需对出口截面处的一个参数进行约束,对出口截面处流场参数分布的约束较少,扩大了给定流场参数的给定范围。控制反射激波顶点处流场参数时便可有效控制反射激波在进气道隔离段内的反射,同时也有利于削弱反射激波与附面层相互干扰的强度,从而有利于提升进气道的气动性能。
搜索关键词: 出口 截面 参数 可控 内转式进气道 基本 设计 方法
【主权项】:
一种出口截面流场参数可控的内转式进气道基本流场设计方法,其特征在于:根据出口截面的一种流场参数分布来设计基本流场下边界的形状,所述方法首先根据反射激波顶点处的波后流场参数设计可生成反射激波的气动型面,然后根据出口截面的一种流场参数分布来设计可将反射激波的波后依赖域出口下游流场参数调整至与出口截面流场参数分布一致的气动型面,这里反射激波顶点为反射激波与基本流场出口截面的交点,即基本流场出口截面的上边界。
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