[发明专利]背照式高速光电二极管接收芯片及其制作方法有效
申请号: | 201710024170.7 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN106784118B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 杨彦伟;陆一峰;刘格;刘胜宇;刘宏亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市芯思杰联邦国际科技发展有限公司 |
主分类号: | H01L31/102 | 分类号: | H01L31/102;H01L31/0232;H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;汪海屏 |
地址: | 518071 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出了一种背照式高速光电二极管接收芯片及其制作方法,芯片包括:外延层,包括P型台面、N型台面、磷化铟衬底;P型台面包括铟砷化镓吸收层、磷砷化镓铟渐变层、反射镜面层、磷化铟顶层、铟砷化镓接触层;N型台面包括磷化铟缓冲层;其中,磷化铟衬底上依次生长磷化铟缓冲层,铟砷化镓吸收层、磷砷化镓铟渐变层、反射镜面层、磷化铟顶层、铟砷化镓接触层;集成微透镜,设置于磷化铟衬底的一侧,且集成微透镜与磷化铟缓冲层在磷化铟衬底的不同侧。本发明能够在确保芯片扩散源区面积保持不变的情况下,扩展芯片的光吸收面积,解决芯片扩散源区面积小所导致的耦合效率低的问题,以及加入反射镜面层能够使芯片的量子效率得到改善。 | ||
搜索关键词: | 背照式 高速 光电二极管 接收 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种背照式高速光电二极管接收芯片,其特征在于,包括:外延层,包括P型台面、N型台面、磷化铟衬底;所述P型台面包括铟砷化镓吸收层、磷砷化镓铟渐变层、反射镜面层、磷化铟顶层、铟砷化镓接触层;所述N型台面包括磷化铟缓冲层;其中,所述磷化铟衬底上依次生长所述磷化铟缓冲层,所述铟砷化镓吸收层、所述磷砷化镓铟渐变层、所述反射镜面层、所述磷化铟顶层、所述铟砷化镓接触层;集成微透镜,设置于所述磷化铟衬底的一侧,且所述集成微透镜与所述磷化铟缓冲层在所述磷化铟衬底的不同侧。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的