[发明专利]背照式高速光电二极管接收芯片及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710024170.7 申请日: 2017-01-13
公开(公告)号: CN106784118B 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 杨彦伟;陆一峰;刘格;刘胜宇;刘宏亮 申请(专利权)人: 深圳市芯思杰联邦国际科技发展有限公司
主分类号: H01L31/102 分类号: H01L31/102;H01L31/0232;H01L31/0352;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 代理人: 尚志峰;汪海屏
地址: 518071 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提出了一种背照式高速光电二极管接收芯片及其制作方法,芯片包括:外延层,包括P型台面、N型台面、磷化铟衬底;P型台面包括铟砷化镓吸收层、磷砷化镓铟渐变层、反射镜面层、磷化铟顶层、铟砷化镓接触层;N型台面包括磷化铟缓冲层;其中,磷化铟衬底上依次生长磷化铟缓冲层,铟砷化镓吸收层、磷砷化镓铟渐变层、反射镜面层、磷化铟顶层、铟砷化镓接触层;集成微透镜,设置于磷化铟衬底的一侧,且集成微透镜与磷化铟缓冲层在磷化铟衬底的不同侧。本发明能够在确保芯片扩散源区面积保持不变的情况下,扩展芯片的光吸收面积,解决芯片扩散源区面积小所导致的耦合效率低的问题,以及加入反射镜面层能够使芯片的量子效率得到改善。
搜索关键词: 背照式 高速 光电二极管 接收 芯片 及其 制作方法
【主权项】:
一种背照式高速光电二极管接收芯片,其特征在于,包括:外延层,包括P型台面、N型台面、磷化铟衬底;所述P型台面包括铟砷化镓吸收层、磷砷化镓铟渐变层、反射镜面层、磷化铟顶层、铟砷化镓接触层;所述N型台面包括磷化铟缓冲层;其中,所述磷化铟衬底上依次生长所述磷化铟缓冲层,所述铟砷化镓吸收层、所述磷砷化镓铟渐变层、所述反射镜面层、所述磷化铟顶层、所述铟砷化镓接触层;集成微透镜,设置于所述磷化铟衬底的一侧,且所述集成微透镜与所述磷化铟缓冲层在所述磷化铟衬底的不同侧。
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