[发明专利]一种低内反射复合基材及其制造方法在审
| 申请号： | 201710026011.0 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN106597590A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 陈信源;何伟锋;钟涛 | 申请（专利权）人： | 广州市佳禾光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B5/22;G02B5/26 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人： | 许飞 |
| 地址： | 510535 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低内反射复合基材及其制造方法，本发明的基材，既可以实现遮蔽层对光的过滤或吸收作用，又可以保持极低的内反射，与常规的镀膜层上设置遮蔽层的基材相比，本发明基材的可以低至0.1%～0.2%（420nm～680nm）。本发明基材的制造工艺简单，与传统的涂覆有遮蔽层的基材的制造工艺相比，工艺的复杂程度基本没有增加，生产成本基本没有增加，甚至有所降低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 复合 基材 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种低内反射复合基材，其特征在于：复合基材的四周由下自上依次为透明基材层、遮蔽层和镀膜层。
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