[发明专利]磁流变三维抛光装置及磁流变抛光液在审
| 申请号： | 201710026061.9 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN108296885A | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 吕鸿图;施武助;徐维浓;向定艾 | 申请（专利权）人： | 昆山纳诺新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 金玉兰;杨敏 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种磁流变三维拋光装置及磁流变拋光液。磁流变三维拋光装置包含拋光容器及磁场发生器。其中，拋光容器具有容置空间，且容置空间容置拋光液及工件。拋光容器设置于磁场发生器上，且与磁场发生器同步旋转。其中拋光容器和磁场发生器可以一起以预定速度旋转，以增加拋光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场发生器 磁流变 光容器 三维 容置空间 光装置 光液 磁流变抛光液 抛光装置 同步旋转 光效率 容置 | ||
【主权项】：
1.一种磁流变三维抛光装置，其特征在于，包含：抛光容器，具有容置空间，且所述容置空间容置抛光液及待抛光的工件；以及磁场发生器，所述抛光容器设置于所述磁场发生器上，且与所述磁场发生器同步旋转，其中转速为0至300RPM。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山纳诺新材料科技有限公司，未经昆山纳诺新材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710026061.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种相对设置的数控机床
- 下一篇：一种大尺寸钢铁铸造试件的抛光方法
