[发明专利]一种高灵敏度半导体纳米紫外光探测器的制备方法有效
申请号: | 201710026074.6 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN106898664B | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 祝元坤;赵爽;田洪正;王现英;王丁 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | H01L31/0392 | 分类号: | H01L31/0392;H01L31/09;H01L31/18 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种高灵敏度半导体纳米紫外光探测器的制备方法,先制备二维超薄结构单晶ZnO纳米材料;将二维超薄结构单晶ZnO纳米材料从生长衬底转移;将二维超薄结构单晶ZnO纳米材料与有机溶液或去离子水混合;超声分散二维超薄结构单晶ZnO纳米材料的溶液;将所述二维超薄结构单晶ZnO纳米材料溶液涂覆在半导体、绝缘、导电的衬底表面;沿所述二维超薄结构单晶ZnO纳米材料米材料长度方向,两端镀制金属导电电极;利用掩膜版遮挡二维超薄结构单晶ZnO纳米材料,镀制绝缘氧化物覆盖层,形成绝缘氧化物半遮盖或者对称遮盖结构,得到二维超薄结构单晶ZnO纳米紫外光探测器。本发明具有结构简单、体积小、响应快、灵敏度高等特点。 | ||
搜索关键词: | 超薄结构 单晶ZnO 二维 纳米材料 制备 紫外光探测器 半导体纳米 绝缘氧化物 高灵敏度 镀制 材料长度方向 金属导电电极 纳米材料溶液 纳米紫外光 超声分散 衬底表面 衬底转移 去离子水 有机溶液 遮盖结构 覆盖层 灵敏度 体积小 掩膜版 探测器 导电 涂覆 绝缘 遮挡 遮盖 半导体 对称 生长 响应 | ||
【主权项】:
1.一种高灵敏度半导体纳米紫外光探测器的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)一个制备二维超薄结构单晶ZnO纳米材料的步骤,采用化学气相沉积法、水热法、磁控溅射法、电子束蒸发、或者分子束外延法方法制备;2)采用超声分散、旋涂有机薄膜以及高纯气体吹扫方法,将所述的二维超薄结构单晶ZnO纳米材料从生长衬底转移;3)将所述的二维超薄结构单晶ZnO纳米材料与有机溶液或去离子水混合,所述的有机溶液为乙醇、丙酮、二甲基甲酰胺、二氯甲烷、辛烷或者异丙醇中的任意一种,所述的二维超薄结构单晶ZnO纳米材料与有机溶液或去离子水的质量比1:1~1:100;4)超声分散步骤3)所述二维超薄结构单晶ZnO纳米材料的溶液,超声功率为1~100 W,时间为1~600 s;5)采用旋涂、提拉、或者点滴的方法将所述二维超薄结构单晶ZnO纳米材料溶液涂覆在半导体、绝缘、导电的衬底表面;采用气体吹扫以及有机溶液冲洗方法,使得所述的二维超薄结构单晶ZnO纳米材料附着在衬底表面;6)采用聚焦离子束或光学显微镜,选取二维超薄结构单晶ZnO纳米材料,所述二维超薄结构单晶ZnO纳米材料长宽比例为100:1~2:1,宽厚比例为10000:1~100:1,厚度小于20 nm;7)利用电子束曝光方法或者光学曝光方法制作掩膜,采用电子束蒸发方法,沿所述二维超薄结构单晶ZnO纳米材料长度方向,两端镀制Au单质、Ti单质、Cr单质、Al单质、Ni单质、或者复合导电薄膜电极,所述的电极的厚度为10~300 nm;8)利用掩膜版遮挡所述二维超薄结构单晶ZnO纳米材料,镀制绝缘氧化物覆盖层,绝缘氧化物覆盖层半遮盖或者对称遮盖所述的电极,覆盖层的厚度为1~300 nm,得到二维超薄结构单晶ZnO纳米紫外光探测器。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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