[发明专利]镀膜基材以及离子束源沉积制备镀膜基材的方法在审
| 申请号： | 201710029850.8 | 申请日： | 2017-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN108315701A | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 吕宜超;王琦;崔平生;何顺卿;黄剑 | 申请（专利权）人： | 中国南玻集团股份有限公司;深圳南玻应用技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C23C16/26;C23C28/04 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 徐春祺 |
| 地址： | 518047 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子束源沉积制备镀膜基材的方法以及该方法制得的镀膜基材，该方法包括如下步骤：提供基材；在基材表面形成介质层，介质层的材料为ZrO或SiOxNy；以碳原子数为1～12的碳氢化合物为气体碳源，在介质层上沉积形成第一类金刚石碳层；在第一类金刚石碳层上继续沉积形成第二类金刚石碳层；在第二类金刚石碳层上继续沉积形成第三类金刚石碳层，得到镀膜基材。这种镀膜基材的第三类金刚石碳层中均含有C‑H键、以sp2的形式结合的C‑C键以及以sp3的形式结合的C‑C键，从而兼具了金刚石的高硬度和石墨表面低摩擦系数的优良特性。 | ||
| 搜索关键词： | 类金刚石碳层 镀膜基材 沉积 介质层 离子束源 制备 低摩擦系数 碳氢化合物 基材表面 气体碳源 石墨表面 碳原子数 金刚石 高硬度 基材 | ||
【主权项】：
1.一种离子束源沉积制备镀膜基材的方法，其特征在于，包括如下步骤：提供基材；在所述基材表面形成介质层，所述介质层的材料为ZrO或SiOxNy，其中，0.1
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