[发明专利]一种两面对准的倒置曝光设备有效
申请号: | 201710032580.6 | 申请日: | 2017-01-16 |
公开(公告)号: | CN106814552B | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
发明(设计)人: | 傅志伟 | 申请(专利权)人: | 江苏影速科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人: | 彭素琴 |
地址: | 221300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种两面对准的倒置曝光设备,属于直写曝光机技术领域。本发明的两面对准的倒置曝光设备,包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置;所述支撑结构下部为一箱体结构,曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内,所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方;所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构,所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方。本发明的装置能够实现对半导体、PCB板等产品双面曝光图像精确对位,不会对板造成永久性的破坏;设备简单,不需要额外添加用于打印或曝光标记图形的设备,节约成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 两面 对准 倒置 曝光 设备 | ||
【主权项】:
1.一种曝光装置在激光直写领域的应用,其特征在于,所述曝光装置包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置;所述支撑结构下部为一箱体结构,曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内,所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方;所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构,所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方。
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