[发明专利]一种用于制备石墨烯电容的系统在审

专利信息
申请号: 201710033929.8 申请日: 2017-01-16
公开(公告)号: CN107068418A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 王奉瑾 申请(专利权)人: 王奉瑾
主分类号: H01G11/34 分类号: H01G11/34;H01G11/86
代理公司: 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙)44286 代理人: 冯汉桥
地址: 528437 广东省中*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明为一种用于制备石墨烯电容的系统,其在设置于机架上的输送平台的多个工作区域内通过多个单体石墨烯电容制造设备依次完成逐个逐个的单体石墨烯电容的制造,在一个工作区域内先后完成氧化石墨烯溶液的预定轨迹涂覆、高能射线照射装置还原石墨烯、介电隔膜材料的涂覆和固化、正极材料的涂覆和固化,从而完成单个单体石墨烯电容的制造,可见,本发明可实现多个单体石墨烯电容的制造,也可实现多规格多型号的单体石墨烯电容的制造,结构合理,灵活可控,制造简单快捷,生产成本低,采用溶剂溶液的方式生产制造,其工况平和无污染。
搜索关键词: 一种 用于 制备 石墨 电容 系统
【主权项】:
一种用于制备石墨烯电容的系统,其特征在于,其包括有机架、设于机架上的输送平台、沿输送平台的行径路线依次设置于输送平台上的至少一个工作区域,以及设于机架上与每个工作区域对应设置的至少一个单体石墨烯电容制造设备;所述的单体石墨烯电容制造设备包括有设于机架上的可寻址位移装置,以及由位移装置控制可移动至输送平台上对应工作区域中任意位置的干燥装置、氧化石墨烯溶液涂覆装置、介电隔膜材料涂覆装置、正极材料涂覆装置、高能射线照射装置、清洗装置。
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