[发明专利]光放大装置以及激光加工装置有效

专利信息
申请号: 201710034952.9 申请日: 2017-01-17
公开(公告)号: CN107204564B 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 福井浩;横井忠正;大垣龙男;谷修一;阪本达典;石津雄一 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: H01S3/067 分类号: H01S3/067;H01S3/094;H01S3/0941;H01S3/10;H01S3/13;B23K26/06
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 崔炳哲
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的一个实施方式所涉及的光放大装置,具有:种子光源(2),其产生脉冲状的种子光;激发光源(3、7),其产生激发光;光放大光纤(1、9),其利用激发光放大种子光,并输出放大光;控制部(20),其控制种子光源以及激发光源。控制部(20)具有如下模式,在该模式中,控制激发光的功率,以使放大光的脉冲宽度的设定值越大,则在脉冲宽度的最小设定值的阈值内放大光的峰值能量越是增大。
搜索关键词: 放大 装置 以及 激光 加工
【主权项】:
一种光放大装置,其特征在于,具有:种子光源,其产生脉冲状的种子光,激发光源,其产生激发光,光放大光纤,其利用所述激发光放大所述种子光,并输出放大光,控制部,其控制所述种子光源以及所述激发光源;所述控制部具有如下模式,在所述模式中,控制所述激发光的功率,以使所述放大光的脉冲宽度的设定值越大,则在所述脉冲宽度的最小设定值的阈值内所述放大光的峰值能量越是增大。
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