[发明专利]光照响应安全元件有效
申请号: | 201710037288.3 | 申请日: | 2017-01-19 |
公开(公告)号: | CN106799899B | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 楼瑾 | 申请(专利权)人: | 楼瑾 |
主分类号: | B42D25/30 | 分类号: | B42D25/30 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 顾伯兴 |
地址: | 310000 浙江省杭州市经*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 发明涉及光学安全技术领域,具体涉及一种光照响应安全元件,包括:至少一层聚焦元件阵列层、基材层和至少一层微图形阵列层,所述各层之间相互粘接形成薄膜型安全元件;所述聚焦元件阵列层由聚焦元件单元排列而成,所述微图形阵列层由微图形单元排列而成,至少部分所述微图形单元不在所述聚焦元件阵列的焦深范围内;至少部分所述安全元件在光源照明下产生图像,所述图像是由微图形阵列层通过聚焦元件阵列层的综合放大成像作用而产生;所述图像在所述光源关闭时消失;至少部分所述安全元件产生的图像对所述光源方位的变化产生动态实时的响应。本发明具有光照响应功能,更高的防复制性能,高安全性能,能够实现超薄,易与被保护产品进行集成。 | ||
搜索关键词: | 光照 响应 安全 元件 | ||
【主权项】:
1.一种光照响应安全元件,其特征在于,包括:至少一层聚焦元件阵列层、基材层和至少一层微图形阵列层,各层之间相互粘接形成薄膜型安全元件;所述聚焦元件阵列层由聚焦元件单元排列而成,所述微图形阵列层由微图形单元排列而成,至少部分所述微图形单元不在聚焦元件阵列的焦深范围内,所述至少部分微图形单元位于聚焦元件阵列的一倍焦距以内,和至少部分所述微图形单元位于聚焦元件阵列的一倍焦距之外;至少部分所述安全元件在光源照明下产生图像,所述图像是由微图形阵列层通过聚焦元件阵列层的综合放大成像作用而产生;所述图像在所述光源关闭时消失;所述图像为平面图像和/或三维图像;至少部分所述安全元件产生的图像对所述光源方位的变化产生动态实时的响应。
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