[发明专利]沉积CsPbBr3纳米片薄膜光电探测器的制备方法有效
申请号: | 201710039265.6 | 申请日: | 2017-01-19 |
公开(公告)号: | CN106784162B | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 杨智;汪敏强 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/09 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 安彦彦 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 沉积CsPbBr3纳米片薄膜光电探测器的制备方法,将CsPbBr3纳米片十八烯溶液离心清洗后,分散到有机溶剂中;将多片图形化金叉指电极排列放在容器内,加入CsPbBr3纳米片有机溶剂分散液;容器敞口放置直到所有的有机溶剂完全蒸发,将沉积CsPbBr3纳米片的金叉指电极热退火后,连接到TO‑5管壳的引脚上,完成光电探测器的制备。本发明采用溶液静置自组装方法制备CsPbBr3纳米片薄膜,可以在容器内同时在多片电极上沉积,提高材料的利用率,同时保证CsPbBr3纳米片薄膜的大面积均匀性和致密性,该方法灵活可控,最终制得长时间稳定的、高性能的CsPbBr3纳米片薄膜光电探测器。 | ||
搜索关键词: | 沉积 cspbbr3 纳米 薄膜 光电 探测器 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.沉积CsPbBr3纳米片薄膜光电探测器的制备方法,其特征在于,包含以下步骤:1)将浓度为10mg/mL的CsPbBr3纳米片十八烯溶液离心清洗后,分散到有机溶剂中得到CsPbBr3纳米片有机溶剂分散液;其中,CsPbBr3纳米片的横向长度为500nm;2)将容器放到减震台面上,然后将10片图形化金叉指电极排列放在容器内,加入CsPbBr3纳米片有机溶剂分散液;3)容器敞口放置直到所有的有机溶剂完全蒸发,得到沉积CsPbBr3纳米片薄膜的金叉指电极;其中,CsPbBr3纳米片薄膜的厚度为1.2微米;4)将沉积CsPbBr3纳米片的金叉指电极热退火后,得到芯片;5)将制备好的芯片连接到标准TO‑5管壳的引脚上,然后把开有石英窗的管帽粘结到底座上,完成光电探测器的制备;所述步骤1)中离心清洗的转速为500~5000rpm,离心清洗的次数为1~5次;所述步骤1)中有机溶剂为正己烷与甲苯的混合物,或正己烷与正辛烷的混合物;所述步骤2)中CsPbBr3纳米片有机溶剂分散液的浓度为0.001~0.5g/mL;所述步骤3)中蒸发的温度为10~50℃;所述步骤4)中热退火的气氛为空气、氮气或氩气;所述步骤4)中热退火的温度为50~200℃,热退火的时间为0.5~2h;图形化金叉指电极通过以下方法制得:在不同的基底上通过光刻工艺制备间距为25微米的图形化金叉指电极;所述基底为硅片、玻璃片、石英玻璃片或柔性基底;硅片基底尺寸为5×5mm2,叉指电极间距为25微米,沟道有效面积是1.5mm2。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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