[发明专利]具有均匀流道路径的液冷头结构在审
申请号: | 201710040035.1 | 申请日: | 2017-01-18 |
公开(公告)号: | CN108323092A | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
发明(设计)人: | 陈春彦 | 申请(专利权)人: | 宇瞻科技股份有限公司;陈春彦 |
主分类号: | H05K7/20 | 分类号: | H05K7/20 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;郑特强 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种具有均匀流道路径的液冷头结构,其包括上盖、本体及底板。上盖包括流体入口及流体出口。本体包括上表面、下表面及第一腔室至第五腔室。第一腔室邻设于上表面且沿中央连线方向延伸,并与流体入口连通。第二腔室邻设于下表面,并与第一腔室连通。第三腔室与第四腔室贯穿上表面与下表面,且分别设置于本体的两相对侧,并且以中央连线为对称轴而呈镜像对称。第五腔室邻设于上表面,且与流体出口、第三腔室及第四腔室连通。底板包括多个导沟彼此平行,且将第二腔室连接至第三腔室及第四腔室,以于底板上形成一具有等长路径的均匀流道。 | ||
搜索关键词: | 腔室 上表面 底板 均匀流 下表面 邻设 连通 第二腔室 第一腔室 流体出口 流体入口 液冷头 连线 上盖 彼此平行 方向延伸 镜像对称 对称轴 导沟 等长 贯穿 | ||
【主权项】:
1.一种具有均匀流道路径的液冷头结构,包括:一上盖,包括一流体入口及一流体出口,其中该流体入口与该流体出口形成一中央连线;一本体,设置于该上盖的下方,且包括一上表面、一下表面、一第一腔室、一第二腔室、一第三腔室、一第四腔室以及一第五腔室,其中该第一腔室邻设于该上表面且沿部分的该中央连线方向延伸,并与该流体入口连通,该第二腔室邻设于该下表面,且沿该中央连线的方向延伸,并与该第一腔室连通,该第三腔室与该第四腔室贯穿该上表面与该下表面,且分别设置于该本体的两相对侧,并且以该中央连线为对称轴而呈镜像对称,该第五腔室邻设于该上表面,且与该流体出口、该第三腔室及该第四腔室连通;以及一底板,包括多个导沟、一第一凹槽及一第二凹槽,其中该第一凹槽与该第二凹槽分别相对于该第三腔室与该第四腔室而设置于该底板的两相对侧,该多个导沟彼此平行,且连接于该第一凹槽与该第二凹槽之间,并且相对于该第二腔室,其中该第二腔室通过该多个导沟、该第一凹槽及该第二凹槽而连通至该第三腔室与该第四腔室,且于该底板上形成一具有等长路径的均匀流道。
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