[发明专利]一种结构位移监测系统及相关监测方法在审

专利信息
申请号: 201710040042.1 申请日: 2017-01-18
公开(公告)号: CN106767444A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 周光毅;赵雪峰;韩瑞聪;李生元;白羽;王志强;赵传莹;王超;刘文斗;孔令杰 申请(专利权)人: 中国建筑第八工程局有限公司;大连理工大学
主分类号: G01B11/03 分类号: G01B11/03;G01B11/16
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司31229 代理人: 曾耀先
地址: 200122 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种结构位移监测系统,其中光线发射装置用于安装在被监测结构上,光线发射装置朝向光线接收装置的光线投射平面设置用于发射光线至光线投射平面上形成光斑,光线投射平面与光线成角度α设置,光斑位移测量装置朝向光线投射平面设置用于测量光斑在一段时间间隔内在光线投射平面上的光斑位移z,并与结构位移计算装置信号连接用于将光斑位移z发送给它,结构位移计算装置用于根据光斑位移z和角度α计算被监测结构在时间间隔内在与光线垂直的方向上的结构位移x=z*Sinα。还提供了相关监测方法。本发明的结构位移监测系统监测结构位移省时省力,成本低,而且精度高,监测准确稳定,可以实时记录结构动态位移变化,适于大规模推广应用。
搜索关键词: 一种 结构 位移 监测 系统 相关 方法
【主权项】:
一种结构位移监测系统,其特征在于,包括光线发射装置、光线接收装置、光斑位移测量装置和结构位移计算装置,所述光线发射装置用于安装在被监测结构上,所述光线接收装置具有光线投射平面,所述光线发射装置朝向所述光线投射平面设置用于发射光线至所述光线投射平面上形成光斑,所述光线投射平面与所述光线成角度α设置,所述光斑位移测量装置朝向所述光线投射平面设置用于测量所述光斑在一段时间间隔内在所述光线投射平面上的光斑位移z,所述光斑位移测量装置与所述结构位移计算装置信号连接用于将所述光斑位移z发送至所述结构位移计算装置,所述结构位移计算装置用于根据所述光斑位移z和所述角度α计算所述被监测结构在所述时间间隔内在与所述光线垂直的方向上的结构位移x=z*Sinα。
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