[发明专利]等离子体处理方法

摘要

本发明提供一种在等离子体处理装置中实施的等离子体处理方法。在一个实施方式的等离子体处理方法中，交替实施多个第一阶段和多个第二阶段。在第一阶段的每一个中，从气体供给系统向处理容器内供给第一气体，从第一高频电源供给第一高频。在第二阶段的每一个中，从本第二阶段前的第一阶段连续地从第一高频电源供给第一高频。在第二阶段的每一个中，将用于从第一气体切换成第二气体的气体切换信号供给气体供给系统。另外，在将气体切换信号供给气体供给系统后，在负载阻抗这样的参数超过阈值时，开始利用第二高频电源供给第二高频。

主权项

1.一种在等离子体处理装置中实施的等离子体处理方法，其特征在于：所述等离子体处理装置包括：处理容器；对所述处理容器内供给气体的气体供给系统；第一电极和第二电极，以所述处理容器内的空间介于所述第一电极和所述第二电极之间的方式设置；输出等离子体生成用的第一高频的第一高频电源；输出离子引入用的第二高频的第二高频电源；连接所述第一电极或所述第二电极和所述第一高频电源的第一供电线路；连接所述第二电极和所述第二高频电源的第二供电线路；用于对所述第一高频电源的负载阻抗进行调整的第一匹配器；用于对所述第二高频电源的负载阻抗进行调整的第二匹配器；对所述气体供给系统进行控制的第一组件；和第二组件，其求取参数，该参数包括所述第一高频电源的负载阻抗、负载电阻、负载电抗和所述第一高频的反射波系数这4者中的至少1者；该等离子体处理方法包括：在所述处理容器内，生成第一气体的等离子体的多个第一阶段；和与所述多个第一阶段交替实施的多个第二阶段，所述多个第二阶段在所述处理容器内生成包含与所述第一气体所包含的气体不同的气体的第二气体的等离子体，在所述多个第一阶段的每一个中，从所述气体供给系统向所述处理容器内供给所述第一气体，从所述第一高频电源对所述第一电极或所述第二电极供给所述第一高频，在所述多个第二阶段的每一个中，从所述多个第一阶段中本第二阶段前的第一阶段连续地从所述第一高频电源对所述第一电极或所述第二电极供给所述第一高频，所述多个第二阶段各自包括：为了将向所述处理容器内供给的气体从所述第一气体切换成所述第二气体，从所述第一组件对所述气体供给系统供给气体切换信号的步骤；和在将所述气体切换信号供给至所述气体供给系统后，在所述参数超过阈值时，所述第二组件开始使所述第二高频电源向所述第二电极供给所述第二高频的步骤。