[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201710044594.X 申请日: 2017-01-19
公开(公告)号: CN106684100B 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 袁剑峰;李东熙 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,解决了阵列基板远离背光源一面的非显示区涂覆的黑色油墨不能完全覆盖阵列基板靠近背光源一侧的公共电极走线区,使得公共电极走线区的栅极金属层裸露,出现环境光反射的情况,进而导致使用该阵列基板的无边框液晶显示器的周边外观效果较差的技术问题。该阵列基板包括衬底基板,衬底基板的非显示区设置有公共电极走线区,公共电极走线区包括金属膜层和非金属膜层,金属膜层为镂空结构。本发明中的阵列基板应用于无边框液晶显示器。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括衬底基板,其特征在于,所述衬底基板的非显示区设置有公共电极走线区,所述公共电极走线区包括金属膜层和非金属膜层,所述金属膜层为镂空结构;所述金属膜层为源漏极金属层,所述非金属膜层包括绝缘层,以及用于遮挡所述源漏极金属层的半导体有源层,所述绝缘层、所述半导体有源层、所述源漏极金属层层叠设置;其中,所述绝缘层设在所述衬底基板的表面,所述半导体有源层位于所述绝缘层与所述源漏极金属层之间。
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