[发明专利]一种光栅制备方法及装置在审
申请号: | 201710045599.4 | 申请日: | 2017-01-22 |
公开(公告)号: | CN106547158A | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | 王华波;张春光;顾开宇;李应樵;许泽山 | 申请(专利权)人: | 宁波万维显示科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/29 | 分类号: | G02F1/29;G02B27/22 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 王术兰 |
地址: | 315000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供的一种光栅制备方法及装置,涉及光栅制备技术领域。光栅制备方法包括根据雕刻参数制定具有凸块的模具;根据模具制造膜材,膜材包括具有凹槽的第一区域和表面平整的第二区域;对膜材具有凹槽的表面进行第一定向摩擦操作;对液晶定向层涂布熔融态液晶,以使液晶定向层包括具有液晶的第三区域和不具有液晶的第四区域,第三区域与第一区域相对应,第四区域与第二区域相对应;以及将膜材与液晶定向层贴合,以使第一区域与第三区域重合,第二区域与第四区域重合,并进行曝光固化处理得到光栅。通过在光栅中分别设置具有液晶的区域和不具有液晶的区域,解决了现有技术中因2D显示和3D显示同时共存而存在电极设计复杂、制造成本高的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 光栅 制备 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种光栅制备方法,其特征在于,包括:根据雕刻参数制定具有凸块的模具;根据所述模具制造膜材,所述膜材包括具有凹槽的第一区域和表面平整的第二区域;对所述膜材具有所述凹槽的表面进行第一定向摩擦操作;对液晶定向层涂布熔融态液晶,以使所述液晶定向层包括具有液晶的第三区域和不具有液晶的第四区域,所述第三区域与所述第一区域相对应,所述第四区域与所述第二区域相对应;以及将所述膜材与所述液晶定向层贴合,以使所述第一区域与所述第三区域重合,所述第二区域与所述第四区域重合,并进行曝光固化处理得到光栅。
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