[发明专利]一种用阻变材料做隧穿层的自旋电子器件有效

专利信息
申请号: 201710047134.2 申请日: 2017-01-22
公开(公告)号: CN106876395B 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 林晓阳;罗枭;赵巍胜;张有光 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H01L27/10 分类号: H01L27/10;H01L43/08
代理公司: 11232 北京慧泉知识产权代理有限公司 代理人: 王顺荣;唐爱华
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种用阻变材料做隧穿层的自旋电子器件,该结构可以是磁隧道结、自旋注入构型等自旋电子结构的一部分。包括:铁磁金属电极;阻变隧穿层;铁磁金属电极或者自旋注入沟道。所述隧穿层,是在不同电压条件下电阻不同的阻变材料。包括但不限于氧化铪(HfO
搜索关键词: 一种 用阻变 材料 做隧穿层 自旋 电子器件
【主权项】:
1.一种用阻变材料作隧穿层的自旋电子器件,具体为一种磁性隧道结器件,其最下端为绝缘层,其上依次沉积普通金属电极、铁磁参考层、阻变隧穿层、铁磁自由层、普通金属电极,并在最上端沉积一个绝缘层;其特征在于:所述隧穿层是在不同电压条件下电阻不同的阻变材料;所述隧穿层为氧化铪(HfO
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