[发明专利]一种蓝膜切割工艺有效
申请号: | 201710049535.1 | 申请日: | 2017-01-23 |
公开(公告)号: | CN106914705B | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 奂微微;陈浪 | 申请(专利权)人: | 苏州五方光电材料有限公司 |
主分类号: | B23K26/38 | 分类号: | B23K26/38;B23K26/40;C09D183/04;C09D183/02;C09D133/12;C09D5/24 |
代理公司: | 32224 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215222 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种蓝膜切割工艺。依次包括步骤:覆膜、激光切割、扩膜、转盘、检测和倒膜,覆膜使用的是蓝色静电膜,蓝色静电膜表面涂有防静电硅胶,该切割工艺中底膜选用蓝膜,选用该蓝膜的切割工艺无需解胶步骤,节约成本,生产效率也有所提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 切割 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种蓝膜切割工艺,其特征在于,包括步骤:/n(1)在蓝色静电膜正面中部贴附至少一个中片,然后将第一晶圆环沿蓝色静电膜周缘贴于蓝色静电膜正面,形成片材组件;/n(2)将片材组件放入激光切割机中,然后用激光束将中片切割成若干小片;/n(3)取出片材组件,并将其放入扩膜机中扩膜;/n(3-1)在扩膜基座上放置子环,在子盖体上放置母环,然后将蓝色静电膜加热至45℃,恒温下置于扩膜基座上,蓝色静电膜正面朝上,且第一晶圆环置于工作平台上;/n(3-2)合上盖体,盖本体压住第一晶圆环,上升扩膜基座,此时扩膜基座抵住其上部的蓝色静电膜,使蓝色静电膜扩展,最终带动小片与小片之间的距离扩大;/n(3-3)下降子盖体,使子盖体上的母环与子环接触并卡合;/n(3-4)打开盖体,取下带有子环和母环的片材组件,冷却;冷却至室温,能够进一步保证蓝色静电膜的稳定性,避免膜回缩,保证小片之间的间隙,同时也能够避免切割后的小片在转移过程中遗落,保证甚至提高粘接力;/n(4)转盘,将片材组件置于转盘平台上,用第二晶圆环更换第一晶圆环,所述第二晶圆环小于第一晶圆环的尺寸;/n(5)检验,将片材组件置于显微镜下检验;/n(6)倒膜,用保护贴膜替换蓝色静电膜;/n所述蓝色静电膜至少在正面涂有防静电硅胶;/n所述防静电硅胶包括以下组份:有机硅粘接剂、丙烯酸类聚合物和抗静电微粒;/n步骤(3)中扩膜时,扩膜温度恒定在40-50℃,扩膜结束后降温至室温;/n蓝膜切割设备包括工作平台,所述工作平台上具有能够相对所述工作平台升降的扩膜基座;盖体,所述盖体相对所述扩膜基座开合设置,所述盖体包括盖本体和子盖体,所述盖本体具有相对所述扩膜基座开设的通孔,子盖体相对所述扩膜基座设置,且子盖体能穿过所述通孔与所述扩膜基座接触;子环和母环,子环设于扩膜基座上,母环设于子盖体上,且子环和母环接触时能够卡合在一起;所述扩膜基座连有加热机构和温度控制机构。/n
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