[发明专利]一种密植沙培黄瓜种植方法在审

专利信息
申请号: 201710049894.7 申请日: 2017-01-23
公开(公告)号: CN106818440A 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: 江培福;辛敏;郑德云;谭力青;晏清洪;殷哲 申请(专利权)人: 江培福
主分类号: A01G31/00 分类号: A01G31/00;A01G1/00
代理公司: 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙)50217 代理人: 蓝静
地址: 100048 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种密植沙培黄瓜种植方法,包括如下步骤步骤一整地,步骤二育苗,步骤三嫁接,步骤四定植。其中,步骤一包括如下内容首先,开挖深度28厘米至35厘米,宽度38厘米至50厘米的沟,然后在沟中逐层装填大石粒、有机肥和细沙;接着将细沙层的顶部刮平,形成自地面向上凸起的台状,作为种植垄;种植垄自地面向上凸起的高度为8厘米至15厘米,两条相邻种植垄的中线相距1.2米至1.4米;步骤四中,定植时采用单行密植方式,密植株距为13厘米至15厘米,黄瓜植株两侧设吊绳进行倾斜引蔓。挖沟、起垄、单行定植的沙培模式具有操作方便、种植密度大、复种率高等特点。因此,可实现沙培黄瓜高产、优质、大规模的生产。
搜索关键词: 一种 密植 黄瓜 种植 方法
【主权项】:
一种密植沙培黄瓜种植方法,包括如下步骤:步骤一:整地,步骤二:育苗,步骤三:嫁接,步骤四:定植;其特征在于,所述步骤一包括:首先,开挖深度28厘米至35厘米、宽度38厘米至50厘米的沟,然后在所述沟中逐层装填大石粒、有机肥和细沙,形成沙培基质;接着,将细沙层的顶部刮平,形成自地面向上凸起的台状,作为种植垄;所述种植垄自地面向上凸起的高度为8厘米至15厘米,两条相邻所述种植垄的中线相距1.2米至1.4米;所述步骤四中,定植时采用单行密植方式,密植株距为13厘米至15厘米,黄瓜植株两侧设吊绳进行倾斜引蔓。
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