[发明专利]双栅线阵列基板以及显示装置有效

专利信息
申请号: 201710051837.2 申请日: 2017-01-20
公开(公告)号: CN108333843B 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 廖峰;董学;吕敬;林允植 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1335
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 刘薇;李峥
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明的实施例提供了一种双栅线阵列基板。该双栅线阵列基板包括沿列方向排列的多个像素组。多个像素组中的每一个包括多个子像素行。每一个子像素行包括多个子像素,在相邻的两个子像素之间设置有第一遮光条或者第二遮光条,并且第一遮光条和第二遮光条交替设置。第一遮光条具有第一宽度,第二遮光条具有第二宽度。对于每一个像素组,至少一个子像素行上的第一遮光条对齐至少一个不同的子像素行上的第二遮光条。本发明的实施例能够在不降低开口率的同时,避免低灰阶时像素显示的明暗差异。
搜索关键词: 双栅线 阵列 以及 显示装置
【主权项】:
1.一种双栅线阵列基板,包括沿列方向排列的多个像素组,其中,所述多个像素组中的每一个包括多个子像素行;其中,每一个子像素行包括多个子像素,在相邻的两个所述子像素之间设置有第一遮光条或者第二遮光条,并且所述第一遮光条和所述第二遮光条交替设置;其中,所述第一遮光条具有第一宽度,所述第二遮光条具有第二宽度;其中,对于每一个像素组,至少一个所述子像素行上的所述第一遮光条对齐至少一个不同的子像素行上的所述第二遮光条。
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